本仪器广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。观察目标：大于3 微米小于20微米，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。
二、技术指标
• 镜筒：B双目，30度倾斜   
• 大视野目镜：WF10XΦ18mm 
• 长工作距离平场物镜：PL10X，PLL 20X，PLL 40X（S）， PL100X（S）oil 
• 转换器：四孔                                                
• 总放大倍数：100X-1000X
• 载物台：尺寸210mm×140mm，移动范围 75mmX50mm
• 聚光镜：可调式阿贝聚光镜NA1.25，孔径光阑，滤色片座
• 调焦： 粗微动同轴，升降范围45mm，微动格值0.002mm，带锁紧和限位装置
• 光源：透反射照明，6V 20W卤素灯，亮度可调  
• 正交偏光装置