本仪器广泛的应用于透明，半透明或不透明物质，观察目标：大于3 微米小于20微米，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。选配外置系统可以方便的连接视屏和计算机进行实时和静动态的图像观察、保存和编辑、打印结合各种软件能进行更专业的金相、测量、互动教学领域的需要。

二、技术指标

• 镜筒：T三目，30度倾斜
• 大视野目镜：WF10Xф18mm
• 平场物镜： PLAN4X，PLAN10X，PLAN40X（S），PLAN100X（oil）（S）
• 转换器：四孔
• 总放大倍数：40X—1000X
• 载物台：尺寸185mmX140mm， 移动范围75mmX50mm
• 聚焦镜：可调式阿贝聚焦镜NA1.25，孔径光阑，滤色片座
• 调焦：粗微动同轴，升降范围35mm，微动格值0.002mm
• 光源：透反射照明卤素灯6V20W，亮度可调
• 正交偏光装置