除了对20-30mm高度的金属试样作分析鉴定外，由于符合人的日常习惯，因此更广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。

二、技术指标

• 镜筒：T三目，30度倾斜   
• 目镜：WF10XΦ18mm 
• 长工作距离平场物镜：PL10X，PLL 20X，PLL 40X（S）， PL100X（S）oil 
• 转换器：四孔                                                
• 总放大倍数：100X-1000X
• 载物台：尺寸210mm×140mm，移动范围 75mmX50mm
• 聚光镜：可调式阿贝聚光镜NA1.25，孔径光阑，滤色片座
• 调焦： 粗微动同轴，升降范围25mm，微动格值0.002mm，带锁紧和限位装置
• 光源：透反射照明卤素灯6V20W，亮度可调  

正交偏光装置