LW200Z-4LJT在观察时成像为正像，这对使用者的观察与辨别带来了极大的方便，除了对20-30mm高度的金属试样作分析鉴定外，由于符合人的日常习惯，因此更广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。

二、技术指标

• 镜筒：T三目，30度倾斜，360度旋转，镜筒辅助倍数1.25X
• 高眼点目镜：PLAN10XΦ20mm
• 长工作距离平场物镜：PL4X，PL10X，PLL40X（S），PL100X（oil）（S）
• 转换器：四孔
• 总放大倍数：50X-1250X
• 载物台：尺寸160mmX140mm ，移动范围75mmX50mm
• 聚焦镜：可调式阿贝聚焦镜NA1.25，孔径光阑，滤色片座
• 焦光镜：高亮点固定式照明与柯勒照明柯互陪
• 调焦：粗微动同轴，升降范围20mm，微动格值0.002mm ，带锁紧和限位装置
• 光源：透反射柯勒照明，透射照明卤素灯12V20W，反射照明卤素灯12V50W，亮度可调

正交偏振装置