特点：
1、可在多种气体和气压下进行表面物质的沉积。
2、将靶材镀到母体表面时，两者的性质改变很小。
3、可作为靶材的种类很多，比如：化合物，金属，有机物，无机物等等。
4、处理时间短。
5、表面镀膜的厚度范围：几纳米
到几百纳米均可。