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南京覃思科技有限公司

产品介绍

高真空蒸镀镀膜仪-应用于SEM,TEM及X-Ray

价 格:¥请电询025-85432178

型 号:K950X

产品完善度:

生产地:其他访问量:342次

发布日期:2009/11/2 0:00:00

更新日期:1900/1/1 0:00:00

详细内容

K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜,并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的导电涂层。
在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到电流密度,使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点,出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置,此泵作为机械真空泵的后级泵,真空为全自动控制,真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制,同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节,非常容易适应各种样品座。可选的样品台具有特殊的凹槽,可放置标准的载玻片,这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利。
碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”,使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置,避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上,并且可安全地“关闭”直接通大气。
 
优点
容易操作
均匀的样品涂层
方便多用户操作
可用于蒸碳及蒸镀金属
● 在排气过程中可防止样品损坏
碳棒或碳丝蒸发
 
特点
全自动抽气系统
旋转样品台
菜单驱动式“用户”键盘输入
快速释放头方便选择不同的头
● 约束的排气控制
● 涡轮分子泵抽真空
 
 
技术规格
仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量:28Kg
工作腔室:硼硅酸盐玻璃165mm Dia x 125mm H
安全钟罩:聚碳酸酯
铝机座:110mm Dia x 115mm H
碳  源:直径3.2mm碳棒
旋转样品台:直径为60 mm,倾斜0-90o
            到电极距离为110mm 到 130mm
真空计范围:ATM - 1x10-5 mbar
操作真空:1x10-2 to 1x10-5 mbar
安培计:0-50 Amps
低电压选择:0-5V-15V-25V
除气电流:0-25 Amps
涡轮分子泵:50L/Second
Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr
电源:230V 50Hz (包括泵电流8 安培);115V 60Hz(包括泵电流16 安培)

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