产品介绍
胶体磨|中式型胶体磨|实验室胶体磨
价 格:¥1000
型 号:CM2000/4
产品完善度:
生产地:其他访问量:72次
发布日期:2011/12/20 12:37:31
更新日期:2012/1/28 10:16:30
详细内容
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CM2000/4 (PP2000/4) | |
功率 | 2.2-4 KW |
转速 | 0-14000rpm |
线速度 | 0-40m/s |
尺寸(长X宽X高) | (450X250X350)mm |
重量 | 45 |
操作条件 | 0-16bar |
中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
CM2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CMO2000系列,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CM 2000/5 | 2,500 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM 2000/10 | 7,500 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM 2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 27 | DN80/DN65 |
CM 2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 50 | DN150/DN125 |
CM 2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。 |