纳米抛光材料的特性：

随着现金电子产品，如集成电路，计算机硬盘，数字光盘，光通讯元件等性能的日益提高，许多部件表面要求达到超光滑。化学机械抛光（CMP）是目前广泛应用的全局平面化技术。纳米抛光材料（纳米磨粒）主要用于CMP过程，是化学机械抛光技术中关键的要素，其性能直接影响抛光后材料的表面质量。近年来，随着纳米材料制备技术的发展，纳米材料应用于化学机械抛光的研究迅速发展。

纳米级的抛光材料与传统的抛光材料相比，具有以下特性：

（1）       抛光后表面质量好，缺陷少。

（2）       亚纳米级的超精抛光是在原子量级进行的，纳米磨粒通过对被抛光工件表面原子的碰撞、摩擦、扩散、填充等，达到原子的去除，磨粒的粒度较小（纳米级）利于获得较低的表面粗糙度、较低的表面波纹度、较高的表面平整度以及较小的表面缺陷。传统大粒子（如微米或者亚微米级）磨粒会引起过度的摩擦及碰撞，导致表面不平度较大和严重的表面损伤。

（3）       抛光液稳定性好

（4）       粒子越小，粒子的布朗运动越强烈，越能阻止粒子因重力而引起的下沉，分散体系的稳定性就约好。因而纳米材料制成的抛光液沉降稳定性大大优于传统的悬浮液。

纳米抛光材料的种类和性能

常用的抛光材料主要有金刚石，氧化铝，氧化硅，氧化铈，氧化钛，氮化硅，氧化铁等。

纳米氧化硅，纳米氧化铝是一种广泛采用的纳米抛光材料，具体详询苏州优锆纳米材料有限公司得到专业的解答。

纳米抛光材料的应用

化学机械抛光已成为众多高新技术，如大规模集成电路、平面显示及超高精度机械加工中不可缺少的工业化生产过程，而且这一技术与许多相关技术结合，将在未来高技术产业中发挥越来越大的作用。随着对表面质量要求的日益提高，纳米抛光材料面临广阔的发展机遇。目前，纳米抛光材料主要应用于集成电路，计算机，光学玻璃等制造中，正进一步拓展应用到晶体，精密阀门、导电玻璃、机械磨具、陶瓷、金属材料、微电极系统（MEMS）、宝石、平面显示器以及广岛摄像机等表面高精加工中。