产品介绍
半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗
价 格:¥电议
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发布日期:2009/11/2 0:00:00
更新日期:1900/1/1 0:00:00
详细内容
供应半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机
本设备适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。 .清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。 .关键件采用进口件,包括气动阀,PFA管道,全氟循环系统,保证工作介质(酸、碱)的洁净度,避免杂质析出。 .工艺过程全自动,机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制,可存储多条工艺时序,方便使用。 人机界面为触摸屏,方便直观。 .除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成,适用于微电子半导体、LED、太阳能电池等行业,也适合于高校化学实验室作实验设备。
本设备适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。 .清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。 .关键件采用进口件,包括气动阀,PFA管道,全氟循环系统,保证工作介质(酸、碱)的洁净度,避免杂质析出。 .工艺过程全自动,机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制,可存储多条工艺时序,方便使用。 人机界面为触摸屏,方便直观。 .除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成,适用于微电子半导体、LED、太阳能电池等行业,也适合于高校化学实验室作实验设备。